base makeup
皮脂テカ防止 さらふわ保湿下地
マットシフォン UVモイストベース
¥ 1,760 (税込)メーカー希望小売価格
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37 g
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- マットシフォン UVモイストベース 01
- シクロペンタシロキサン、水、酸化亜鉛、メタクリル酸メチルクロスポリマー、ジグリセリン、DPG、PEG-9ジメチコン、ジメチコン、ジステアルジモニウムヘクトライト、カミツレ花エキス、アセチルヒアルロン酸Na、水溶性コラーゲン、コメヌカスフィンゴ糖脂質、レシチン、コメヌカ油、クエン酸Na、トリエチルヘキサノイン、ラウロイルグルタミン酸ジ(フィトステリル/オクチルドデシル)、水酸化Al、メチコン、トリメチルシロキシケイ酸、ステアリン酸、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、BG、ハイドロゲンジメチコン、ポリクオタニウム-51、グリセリン、オレイン酸ポリグリセリル-10、トリ(カプリル酸/カプリン酸)グリセリル、酸化チタン、タルク、酸化鉄
- マットシフォン UVモイストベース 02
- シクロペンタシロキサン、水、酸化亜鉛、メタクリル酸メチルクロスポリマー、ジグリセリン、DPG、PEG-9ジメチコン、ジメチコン、ジステアルジモニウムヘクトライト、カミツレ花エキス、アセチルヒアルロン酸Na、水溶性コラーゲン、コメヌカスフィンゴ糖脂質、レシチン、コメヌカ油、クエン酸Na、トリエチルヘキサノイン、ラウロイルグルタミン酸ジ(フィトステリル/オクチルドデシル)、水酸化Al、メチコン、トリメチルシロキシケイ酸、ステアリン酸、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、BG、ハイドロゲンジメチコン、ポリクオタニウム-51、グリセリン、オレイン酸ポリグリセリル-10、トリ(カプリル酸/カプリン酸)グリセリル、酸化チタン、タルク、酸化鉄
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うるおいながらテカリを抑える、さらふわ保湿下地
優れた保湿力で、テカるのに乾燥しがちな肌を守りつつ、過剰な皮脂を吸収してさらふわ肌を長時間キープします。
しっとりとうるおいながら、表面はさらりとした心地よい肌に。
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毛穴をきれいにカバー
毛穴や凹凸をカバーして、均一でなめらかな肌に仕上げます。
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SPF26 PA++
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スーパーヒアルロン酸・コラーゲン・植物性セラミド※・カモミラエキス配合(すべてうるおい成分)
※コメヌカスフィンゴ糖脂質
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ニキビのもとになりにくい処方※
※ノンコメドジェニックテスト済。全ての方にコメド(ニキビのもと)が発生しないということではありません。
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